ცხელი დიპლომატიური გალვანაცია გალვანაციის ფორმაა. ეს არის თუთიისგან რკინისა და ფოლადის დაფარვის პროცესი, რომელიც ანაწილებს ფუძე ლითონის ზედაპირთან ერთად, როდესაც ლითონის ჩაყრის აბანოში მეტალის ჩაყრის დროს, 840 ° F ტემპერატურაზე (449 ° C) ტემპერატურაზე. ატმოსფეროში ყოფნისას სუფთა თუთია (Zn) რეაგირებს ჟანგბადთან (O2) თუთიის ოქსიდის (ZnO) ფორმირებაზე, რომელიც შემდგომ რეაგირებს ნახშირორჟანგით (CO2) თუთიის კარბონატის (ZnCO3) ფორმირებისთვის, ჩვეულებრივ, მკვრივი ნაცრისფერი, საკმაოდ ძლიერი მასალა, რომელიც იცავს ფოლადის ქვეშ, მრავალი გარემოებისგან შემდგომი კოროზიისგან. გალვანზირებული ფოლადი ფართოდ გამოიყენება აპლიკაციებში, სადაც კოროზიის წინააღმდეგობაა საჭირო უჟანგავი ფოლადის გარეშე, და უპირატესად მიიჩნევა ღირებულებისა და სიცოცხლის ციკლის თვალსაზრისით.